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等離子去膠機的優(yōu)勢主要體現(xiàn)在這些方面!

更新時間:2023-07-06      點擊次數(shù):811
   等離子去膠機(PlasmaDe-scummingMachine)是一種環(huán)保的半導(dǎo)體制程前減薄過程中清洗化學(xué)機械研磨殘膠的設(shè)備,主要應(yīng)用于集成電路制造業(yè)、光電子工業(yè)及液晶顯示器行業(yè)。等離子去膠機以氣體放電為驅(qū)動力,在實驗室里常用非惰性氣體,如純氧、氮和氦。經(jīng)過電離處理而產(chǎn)生的活性物質(zhì),可以將表面染料(Organiccontaminants)分解為無毒性分子,去除表面膠片使得后續(xù)工序不會受到殘留雜質(zhì)污染。
  等離子態(tài)(PlasmaState),是由電子與離子(或大分子)相互作用產(chǎn)生的一種氣體。在等離子體狀態(tài)下,氣體分子中的部分或者全部電子和分子離開了原有結(jié)構(gòu),形成了大量的離子電子和自由基。等離子體具有很高的反應(yīng)活性,能夠把氣體分子轉(zhuǎn)化成帶正/負(fù)電荷的粒子,從而改變物質(zhì)性質(zhì),改善表面性能。
  在一定壓強和電壓下,通過氣輝放電的方式產(chǎn)生等離子體,并將其直接噴向被處理表面,形成化學(xué)反應(yīng)區(qū)域。等離子體能夠解離化學(xué)鍵并且改變分子結(jié)構(gòu),從而清洗掉表面的涂層粘性雜質(zhì)污染,去除提示性化學(xué)機械研磨殘留殘膜,并且增加表面的活性,提升表面潤濕性和附著力。清洗后表面不會出現(xiàn)新的殘膠或者其他污染物,這使得等離子去膠技術(shù)成為典型的原位清洗、處置技術(shù)。
  上海沛沅儀器(小型等離子清洗機-國產(chǎn)等離子刻蝕機-等離子表面處理機廠家-上海沛沅儀器)等離子去膠機的優(yōu)勢:
  1.可去除微米級別的污染.
  2.可去除殘留污染表面,在減少手工操作方面有明顯的時間和成本優(yōu)勢.
  3.清洗過程不需要使用溶劑溶液,更加環(huán)保,因此不會引起二次污染及消耗大量的資源.
  4.可以對多種不同物質(zhì)進行去膠,具有廣泛適用性.
  等離子去膠機在集成電路制造、光電子工業(yè)及液晶顯示器行業(yè)的特殊清潔要求下得到了廣泛的應(yīng)用。在運作過程中,普遍存在電磁干擾現(xiàn)象,操作時需主意安全,定期維護設(shè)備。為確保能夠穩(wěn)定的使用,建議將其放置在防靜電環(huán)境下,并按時檢測機器的電場功率密度變化情況等信息,從而提升機器設(shè)備的長期穩(wěn)定性和可靠性。
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