半導(dǎo)體等離子去膠機(jī)是一種全新的高科技技術(shù)，利用等離子體來達(dá)到常規(guī)清洗方法無法達(dá)到的效果?？捎糜诠饪棠z灰化/殘膠去除和表面處理，該設(shè)備能在不破壞晶片和其他所用材料的外觀特性、熱力學(xué)特性和電氣特性的前提下，清洗和去除晶片表面的有害雜質(zhì)，這對(duì)于通用性非常重要，半導(dǎo)體元件的穩(wěn)定性和集成度。否則會(huì)對(duì)半導(dǎo)體元器件的性能指標(biāo)造成嚴(yán)重的問題和干擾，嚴(yán)重影響產(chǎn)品合格率，阻礙半導(dǎo)體元器件的整體發(fā)展。

　　等離子去膠機(jī)主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達(dá)到去除物體表面污漬的目的。就反應(yīng)機(jī)理來看，等離子體清洗通常包括以下過程：無機(jī)氣體被激發(fā)為等離子態(tài)；氣相物質(zhì)被吸附在固體表面；被吸附基團(tuán)與固體表面分子反應(yīng)生成產(chǎn)物分子；產(chǎn)物分子解析形成氣相；反應(yīng)殘余物脫離表面。

　　半導(dǎo)體等離子去膠機(jī)頻率|真空度|功率|氧氣流量的調(diào)整

　　將待拆模插入石英舟內(nèi)平行氣流方向推至真空室兩電極之間，抽真空至1.3Pa，引入適量氧氣，保持反應(yīng)室壓力在1.3-13Pa，加高頻功率，電極間產(chǎn)生薰衣草輝光放電。通過調(diào)節(jié)功率、流量等工藝參數(shù)，可獲得不同的脫膠率。當(dāng)去除膠膜時(shí)，輝光消失。

　　1、調(diào)整合適的頻率：

　　頻率越高，氧越容易電離形成等離子體。如果頻率過高，使電子振幅短于其平均自由程，電子與氣體分子碰撞的概率就會(huì)降低，導(dǎo)致電離率降低。通常，公共頻率為13.56MHz和2.45GHz。

　　2、調(diào)整合適的真空度：

　　適當(dāng)?shù)恼婵斩瓤梢允闺娮舆\(yùn)動(dòng)的平均自由程更大，因此從電場(chǎng)中獲得的能量更大，有利于電離。此外，當(dāng)氧氣流量必須準(zhǔn)時(shí)時(shí)，真空度越高，氧氣的相對(duì)份額越大，活性顆粒濃度越大。但如果真空度過高，活性粒子的濃度反而會(huì)降低。

　　3、調(diào)整適當(dāng)?shù)墓β剩?/div>